[PConline评价]最近,关于高通Primulation 652处理器的讨论似乎是锅爆了。这款处理器不仅内置4个A72内核,还因为Primulation 652使用28纳米工艺,所以在2015年,基于TSMC 20nm纳米工艺的Primulation 810对功耗和热量的控制不令人满意。

高通骁龙652简析

作为未来中端骁龙600系列的主力,骁龙652有着比骁龙616/617更强的技术特性,例如内置4*A72+4*A53核心,已经比上一代骁龙810/Exynos 7420的4*A57+4*A53强大不少,而GPU方面更是搭载了全新的Adreno 5代图形处理器,型号为Adreno 510,支持包括OpenGL ES 3.1/CL 2.0 full、DirectX 12以及曲面细分等技术。而在GFXbench中,Adreno 510曼哈顿离屏跑分达到了13fps,1080p T-Rex离屏31.2fps,稍微落后于Adreno 430,但已经和15年的次旗舰Adreno 418处于同一水平。

而在网络方面,骁龙652集成X8 LTE基带,支持全网通、中国运营商的4G+组合、VoLTE语音技术等等,下行Cat 6标准,通过2*20MHz载波聚合技术提供最高300Mbps的下行带宽,而上行则达到了Cat 7标准,同样支持2*20MHz双载波聚合,最高100Mbps带宽。支持MU-MIMO天线技术的802.11ac新标准。在网络方面同样丝毫不含糊。

28nm HPM工艺

高通骁龙652基于TSMC的28nm HPM工艺,对于台积电来说,如今的28nm工艺有LP/HPM/HPL以及HP四种,其中的HPM全称为HighPerformance Mobile(移动高能低功耗工艺),比LP/HPL都要高级(HP不能用在移动设备上所以不纳入对比范围),单对比28nm LP/HPL/HPM的话,性能排序从高到低为:HPM/HPL/LP,而漏电排序从少到多为:HPL/HPM/LP。

而台积电的28nm HPM工艺已经相当成熟,高通方面也表示在同等性能下A72核心的功耗比A57更低。所以使用28nm HPM工艺足矣。如今骁龙652的A72核心频率为1.8GHz,似乎不太高,究竟日后骁龙652会不会通过使用16nm FF工艺来拉升主频呢?这个就不知道了,但在高通的沟通会上其表示会根据市场状况来更新制程,看来高频版的骁龙652还是有可能的。

骁龙652发热实测

为了进一步反映骁龙652的发热状况,笔者对某台搭载骁龙652的手机进行了游戏以及在线视频的测试。测试室温:16℃。游戏测试:(1)NBA2K15;(2)真实赛车3,在线视频测试:(1)优酷客户端,子项目测试前一键清理后台,机器自然冷却。笔者没有采用直接检测Soc温度的方法,毕竟对于用户来说,机身的整体发热才是最受到关注的。

整机热力图

:

骁龙652整机发热测试
正面/℃背面/℃
在线视频发热测试最高:27.2中间:24.8最高:25.1中间:23.6
游戏发热测试(1)最高:31.7中间:27.8最高:31.0中间:26.9
游戏发热测试(2)最高:30.9中间:28最高:29.9中间:26.8

测试总结:

从测试结果看来,这台搭载骁龙652处理器的手机机身发热还不算十分明显,虽然我们没有直接检测处理器的温度。但手机机身的发热状况可以侧面反映出这颗处理器的发热情况,而从测试结果看来骁龙652的温度控制依然处于良好的水平。然而问题又来了,夏天的温度会明显比测试的环境温度高,究竟骁龙652在负载时发热会不会有其他意外?本站接下来将会进行相应的模拟测试,敬请期待。

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