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光刻是芯片设计中的重要技术。它具体是指在光照作用下,借助光致抗蚀剂将掩膜版上的图形转移到基片上的一种技术。那光刻工艺对 掩膜版 的质量要求:精度高、反差强、耐磨损、套刻准。 ...
金属 掩膜版 是半导体领域必不可少的工具,目前国内主要生产金属掩膜版的公司有深圳市鸿浚通科技有限公司;南京澄超光电科技有限公司;湖南省鸿宇通光电有限责任公司;南京高光半导体材料有限公司;东莞雅格蚀刻元器...
正性光刻胶一般在使用过程中都简称为正胶,在显影液中,光刻胶的溶解度是非常高的。行业内普遍认为正性光刻胶具有更好的对比度,生成的图形也具有更好的分辨率。 掩膜版 也被称作是光刻版,上面又一层感光材料,使用...
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