ARF 电子化学品｜2018年全球半导体光刻胶市场规模预测

半导体光阻有很多种，目前市场上已经实际使用的主要半导体光阻按曝光波长可以分为四种，如G线、I线、KrF、ArF。目前分辨率最高的半导体光刻胶是ArF光刻胶。

半导体光刻胶的分类

G线和I线光刻胶是目前市场上应用最广泛的光刻胶，但是G线和I线光刻胶对应的IC工艺节点比较早。随着未来功率半导体、传感器和LED市场的不断扩大，一线光刻胶市场将持续增长。随着精细化需求的不断增加，未来一些使用I线光刻胶的应用将转向KrF光刻胶，这将促进KrF光刻胶市场的增长。ArF光刻胶对应最先进的IC工艺节点。在7纳米工艺的EUV技术成熟之前，ArF光刻胶仍将是主流。随着双/多次曝光技术的使用，光刻胶的使用将会增加，ArF光刻胶的市场将会快速增长。

全球光刻胶市场份额

半导体光刻胶的配方相对稳定，其专用化学品的市场规模与半导体光刻胶基本保持相同的比例。2017年半导体光刻胶需求较2016年增长7-8%，达到12亿美元的市场规模。随着下游应用对功率半导体、传感器和存储器需求的扩大，未来光刻胶市场将继续扩大。

全球半导体光刻胶市场规模

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来源

:中国工业信息网