2020年5月13日,领先的非易失性存储供应商武汉新新集成电路制造有限公司(以下简称“武汉新新”)宣布采用50纳米浮栅工艺SPI NOR Flash宽电压产品系列XM25QWxxC进行批量生产,产品容量覆盖16Mb至256Mb。该系列支持低功耗和宽电压操作,为物联网、可穿戴设备和其他功率敏感应用提供灵活的设计解决方案。
XM25QWxxC系列产品可在1.65V至3.6V的电压范围内以133MHz读取(支持所有单/双/四通道和QPI模式),工作温度范围可达-40℃至105℃。电源电压下降后,时钟速度不变慢,传输速率可以优于8位和16位并行闪存。连续读取模式可实现高效的内存访问,24位地址只需8个时钟指令周期即可读取,从而实现实XIP(就地执行)操作。
XM25QWxxC系列不仅支持SOP8和USON8小尺寸封装,还针对中高容量产品中的可穿戴设备等尺寸有限的应用推出WLCSP封装,帮助客户充分利用空。全线产品支持知名好模(KGD)解决方案,并为客户提供RDL服务,以满足客户的定制SiP要求。
“XM25QWxxC系列产品采用业界先进的50纳米浮栅工艺,进一步增强了性能和成本方面的竞争力。”武汉新新运营中心副总裁孙鹏先生表示:“对于快速增长的物联网和5G市场,武汉新新将继续投资研发自有品牌闪存产品,不断拓展产品线,为客户带来更多性价比更高的产品和解决方案。”
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关于武汉新新集成电路制造有限公司(XMC)
武汉新新集成电路制造有限公司成立于2006年,为世界各地的客户提供专业的12英寸晶圆代工厂服务,专注于NOR闪存和CMOS图像传感器芯片的研发和制造。目前,武汉新新在上海、苏州、深圳和日本设有办事处,为中国和世界各地的客户提供业务和技术服务。武汉欣欣是中国乃至世界领先的NOR闪存供应商之一,产品覆盖全球工商市场。武汉鑫鑫生产的CMOS图像传感器芯片具有高性能、低功耗的优点,在智能手机市场应用广泛。更多信息,请访问www.xmcwh.com。
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