CBZ 【有机反应百科】苄氧基羰基保护基 Cbz Protecting Group

有机合成

反应百科

苄氧羰基保护基团

保护基

摘要

苄氧羰基(CBZ または z)，通常用于通过形成氨基甲酸酯来保护胺基。在某些情况下，它也用于保护醇和酚上的羟基。

在强碱、强酸、弱亲核氢化物条件下酯水解对还原条件有很好的耐受性，可以通过接触还原条件脱保护。所以可以结合Fmoc保护基和Boc保护基。

基础文学

博格曼；Zervas，L. Ber .1932, 65, 1192.doi:10.1002/cber。18860 . 888888888816

发展史

这个保护基团最早是由马克斯·博格曼在1932年合成的，并应用于多肽合成。

保护

氯甲酸苄酯(Cbz-Cl或z-Cl)常被用作反应试剂。反应中的碱通常是吡啶或三乙胺。使用无机碱的Schotten-Baumann条件对于保护氨基酸也是常见的。

去保护

钯/碳催化的接触氢还原脱保护是一种常用的方法。副产物是挥发性甲苯和CO2だ，因此后处理也非常简单。Pd(OH)2可作为难脱保护的底物。

反应示例

Cbz的脱保护与Boc2O共存，Cbz和Boc的置换可以一步实现[1]。

在加入方酸衍生物的条件下，双键可以在CBZ、Fmoc和BN保护基团的存在下选择性还原[2]。

在氨源存在的情况下，Bn基团的去保护受到抑制，CBZ可以被选择性地去除[3]。

在TMS-I条件下脱保护[4]。

通过使用镍催化剂，杂环氮上的Cbz基团可以被选择性地去除[5]。

实验提示

Pd(OAc)2とcharcholから PD/c を做了关于る技术はより安全に加水が的报告

参考

Sakaitani, M.; Hori, K.; Ohfune, Y. Tetrahedron Lett. 1988, 29, 2983. doi:10.1016/0040-4039(88)85064-0Shinada, T.; Hayashi, K.-i.; Yoshida, Y.; Ohfune, Y. Synlett 2000, 1506. DOI: 10.1055/s-2000-7655Sajiki, H. Tetrahedron Lett. 1995, 35, 3465. doi:10.1016/0040-4039(95)00527-JTanimori, S.; Fukubayashi, K.; Kirihata, M. Tetrahedron Lett. 2001, 42, 4013. doi:10.1016/S0040-4039(01)00645-1Lipshutz, B. H.; Pfeiffer, S. S.; Reed, A. B. Org. Lett. 2011, 3, 4145. DOI: 10.1021/ol016693lFelpin, F.-X.; Fouquet, E. Chem. Eur. J. 2010, 16, 12440. doi:10.1002/chem.201001377

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