遮罩 什么是遮罩？

软件在雕刻物体时为用户提供蒙版功能，蒙版和蒙版含义相同，蒙版是选择框的外部。面具虽然是一种选区，但与常规选区有很大区别。常规选择显示一个操作趋势，即选中区域会被处理；另一方面，掩模保护所选区域不被操作，但是将操作应用到非隐藏的地方。在ZBrush中使用它可以锁定和保护我们不想改变的模型位置，也就是说，被遮罩的部分不会参与任何编辑。

ZBrush中的蒙版是在雕刻或绘图时对模型的一部分进行蒙版，蒙版只能在3D编辑模式下使用。

注意:雕刻时可以直接操作蒙版(主要有两种方式:一种是手工创建蒙版；另一种是使用相应的命令计算掩膜范围，实现精确掩膜。但是，“工具:遮罩”子菜单包含一些可以自动控制遮罩的参数，包括影响遮罩及其绘制。

屏蔽区域不能打开或关闭。它们只能被取消屏蔽，或者完全或部分屏蔽。例如，我们在雕刻过程中在遮罩区域产生的效果取决于模型各点的遮罩强度。

而且在看位移函数细节的时候，有了一个新的专业掩膜——拓扑掩膜。当我们对模型的一些肢体或其他部分进行拓扑时，它非常有用，并且可以根据模型的拓扑结构自然地对其进行掩蔽。

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