上海微电子装备有限公司 上海制造——上海微电子装备（集团）股份有限公司

上海上海微电子设备有限公司

中国工业博览会

上海微电子设备有限公司主要致力于半导体设备、泛半导体设备和高端智能设备的开发、设计、制造、销售和技术服务。我们的设备广泛应用于集成电路前端、高级封装、平板显示器、微机电系统、发光二极管、功率器件等制造领域。

SMEE致力于为客户提供全天候、全方位、全心全意的优质产品和技术服务，以极致的服务、高端的产品和卓越的价值。

SMEE通过了ISO27001信息安全、ISO9000质量管理、ISO14001环境管理体系的国际认证，努力为客户提供持续、稳定、优质的产品和服务，履行优秀高科技企业的社会责任。

SMEE通过GB/T29490《企业知识产权管理标准》认证，被评为“上海市专利工作和知识产权示范企业”、“国家知识产权示范企业”、“国家企业技术中心”。

7.2H-E151

高分辨率6代小型掩模投影曝光机

该产品项目组在成功研发的4.5代投影曝光机积累的技术经验基础上，进一步攻克了多项关键技术，包括大载荷6代主动减振与机架系统、长行程高精度工件台系统、高精度双掩膜台系统、双投影物镜系统、大功率照明系统、大尺寸聚焦调平系统、高精度光电测量系统、 全自动基板传输系统和整机系统设计和系统集成，并对相关技术方案进行工程验证，最终完成创新2017年12月，整机集成和产品首件交付完成。

该产品是国内第一台6代投影曝光机。该项目的成功开发填补了国内设备在该领域的技术空空白，打破了国外的垄断和技术封锁。该产品创新性地采用独特的双投影曝光系统和双掩模台加单衬底台的结构，利用6英寸双掩模同时实现第6代衬底上的扫描曝光，分辨率达到国际先进水平。与竞争产品相比，该产品采用6英寸口罩方案可以显著节约口罩成本，在客户使用成本上具有不可替代的优势。

6.2H A001-A004

600系列90纳米集成电路正投影光刻机

集成电路正面投影光刻机是集成电路设备中技术难度最高、价格最贵的关键设备。它集精密光学、机械、控制、材料等先进技术和工程技术于一体，是集成电路设备中技术难度最高的关键设备。但国内企业起步较晚，基础薄弱，先进光刻机设备的核心技术一直被国外半导体设备巨头垄断。

600系列集成电路前道光刻机具有自主知识产权。目前已申请或授权的包括国际发明专利在内的756项专利，包括多项创新技术:高分辨率、大数值孔径和曝光场的投影物镜、高速高精度的运动平台同步技术、精密聚焦、调平和对准先进的光信号处理技术，处于国内最高水平，达到世界同类产品领先水平。同时，600系列IC正面光刻机采用扫描光刻机模块化平台技术，具有良好的功能扩展性和动态性能。