晶瑞股份 晶瑞股份：内外并举打造微电子化学品龙头

多年来深度培育电子化学品，收入增长势头良好

景瑞有限公司成立于2001年，是中国领先的R&D微电子化学品生产企业，主要生产超净高纯试剂、光刻胶、功能材料、锂电池粘合剂等四大类微电子化学品，应用于半导体、光伏太阳能电池、发光二极管、平板显示器、锂电池等五大下游产业。

海外收购有助于业绩增长

2017年9月，公司收购苏州瑞虹少数股东股权；12月，江苏杨恒增资，持股比例80%，纳入合并范围。

2018年上半年营业总收入3.66亿元，比上年同期增长50.32%；上市公司股东应占净利润2391.44万元，同比增长67.16%；上市公司股东应占净利润扣除非经常性损益后为1858.22万元，同比增长54.66%。

2017年，公司实现营业总收入534，539，300元，比上年同期增长21.52%；上市公司股东应占净利润3617.65万元，同比增长6.72%；

▲2014-2018年h公司营业收入及归属于母亲的净利润

面向国内市场，产品线丰富

公司收入主要来自国内市场，国内收入占95%左右。在产品结构上，超净高纯试剂收入占比稳定，2017年收入占比37.0%。

锂电池粘合剂业务受益于新能源汽车的快速发展，收入快速增长。自2015年以来，其收入占光刻胶业务收入的第二大来源，2017年占35.2%。

主营业务产销两旺，在建产能逐步释放

根据公司招股说明书披露的信息，2016年，公司主要业务超净高纯试剂、光刻胶等产能基本得到充分利用，实现了满产满销。2017年，公司总销量达到4.9万吨，同比增长11.9%，并继续保持良好的增长势头。

产品类别

减少过剩产能

产量

产能利用率

销售量

销售商品的销售率

超净高纯试剂

38700

38753

100.14%

37696

97.27%

光阻材料

480

435

90.63%

424

97.58%

功能材料

7000

4475

63.92%

4390

98.11%

锂电池粘合剂

1500

1116

74.40%

1127

100.95%

2016年，公司主要产品实现全产全销

公司新成立的子公司眉山景瑞电子材料有限公司将建设8.7万吨半导体材料产能，杨恒化工将建设9万吨电子级硫酸产能。产能瓶颈突破后，未来收入将进一步提升。

项目

扩大生产

产能

筹款项目

蚀刻液、剥胶液、显影液、清洗液、光刻胶、电子电镀液

12000

超纯氟化铵、超纯氨水和超纯过氧化氢

8500

过氧乙酸和高纯度草酸

19500

江苏杨恒

电子级硫酸

90000

眉山景瑞

光电显示和半导体新材料

87000

▲公司未来的扩张

超高纯度试剂符合国际标准，部分达到G5水平

湿电子化学品是指电子工业中使用的特殊化学品和化学材料，即用于电子元器件、印刷电路板、工业和消费机械的生产和包装的各种化学品和材料。

根据用途，主要分为一般超净高纯试剂和功能材料。超净高纯试剂是电子工业中用于控制颗粒和杂质含量的化学试剂。

按性质可分为酸、碱、有机溶剂等；功能材料主要包括显影液、剥离液、蚀刻液、稀释剂和清洗液等。

类别

文章名称

酸

氢氟酸、硝酸、盐酸、磷酸、硫酸、醋酸等

碱金属

氨、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化四甲铵等

有机溶剂

酒

甲醇、乙醇、异丙醇等

酮

丙酮、丁酮、甲基异丁基酮等

脂质

乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸异戊酯等

碳氢化合物

苯、二甲苯、环己烷等

氟化烃

三氯乙烯、三氯乙烷、氯甲烷、四氯化碳等

其他的

过氧化氢和氟化铵的水溶液

▲超高纯度试剂的类型

产品结构方面，超净高纯试剂需求占88%，功能材料占12%。其中过氧化氢、硫酸、氢氟酸、硝酸、磷酸依次占超净、高纯试剂的很大比例；在功能材料中，依次为半导体显影液、蚀刻液、面板显影液、剥离液和缓冲蚀刻液。

▲湿电子化工产品结构

▲超净高纯试剂产品结构

▲功能材料产品结构

根据国际半导体设备和材料组织，产品标准可分为五个等级:G1 G5。不同的应用市场对超净和高纯度试剂的纯度有不同的要求:

●半导体市场对纯度要求最高，主要在SEMIG4和G5水平，这也与集成电路等半导体行业的技术发展需求相一致；

●平板显示器和LED市场的纯度要求集中在G2和G3级别；

●太阳能光伏电池市场纯度要求最低，G1基本能满足需求。

半等级

G1

G2 Esports电子竞技俱乐部

自交第三代

G4

G5

金属杂质

≤100

≤10

≤1

≤0.1

≤0.01

控制粒度um

≤1.0

≤0.5

≤0.5

≤0.2

*

粒子数/

≤25

≤25

≤5

*

*

适应集成电路线宽范围/μm

>。1.2

0.8-1.2

0.2~0.6

0.09~0.2

& lt0.09

▲高纯度试剂SEMI国际标准；来源:公司公告，最材料

注:线宽是指集成电路生产工艺能够达到的最小线宽，是集成电路工艺先进水平的主要指标

“*”表示没有统一规定，由试剂生产厂家根据客户具体要求确定

中国对高规格超净高纯试剂的需求一直依赖进口。

国外超净高纯试剂的主要生产厂家有德国默克公司、美国阿什兰、Mallinckradt Baker和奥林公司、日本和歌和歌纯药工业有限公司、住友化学公司等。国际先进公司占据技术创新高点，同时严格控制技术泄漏。

▲国内超净高纯试剂基本被国外公司垄断

●目前，G1超净高纯试剂主要用于光伏领域，光伏领域是国内产品的主要市场，完全由国内制造；

●G2级主要用于分立器件、LED制造、平板显示，大部分已经国产化；

●G3级主要用于LED、平板显示和部分集成电路，已经部分国产化，能够满足大部分LED和显示领域的生产需求；

●G4、G5级主要用于集成电路，目前对试剂纯度要求高，自给率低。景瑞有限公司生产的硝酸、氢氟酸、氨水、盐酸、异丙醇等产品达到SEMI G4级，可用于0.09-0.2微米集成电路；

●第一款产品双氧水，已经达到10ppt的水平，相当于SEMI G5，突破国外技术垄断，可以用于90nm以下的集成电路。

公司突破一线光刻胶

光刻胶市场被高度垄断

放眼全球市场，光刻胶专用化学品生产壁垒高，国产化需求强。化学结构特殊，保密性强，用量小，纯度要求高，生产工艺复杂，质量要求严格，生产、检测和评价设备投资大，技术需要长期积累。

到目前为止，光刻胶专用化学品主要由日本合成橡胶、东京华英、住友化学、美国杜邦、德国巴斯夫等化学寡头垄断。

▲全球光刻胶市场格局

国产光刻胶产品有了很大的提升空

智研咨询的数据显示，全球光刻胶下游应用相对均衡，PCB光刻胶、平板显示光刻胶、半导体光刻胶等应用的比例基本在25%左右，而国内光刻胶的主流应用集中在PCB光刻胶，占90%以上，结构单一，产品低端。

▲2015年国产光刻胶分类

高端光刻胶自给率低，景瑞股份率先实现一线光刻胶批量生产

2015年中国光刻胶需求10.16万吨，产量9.7万吨，供需比例约95%。但在我国光刻胶生产中，PCB光刻胶占94%以上，而高端LCD和半导体用光刻胶的自给率仍有待提高。

类型

细分类型

年增长率

本地化程度

液晶光刻胶

彩色和黑色光刻胶

10%

几乎进口

液晶触摸屏用光刻胶

>。10%

苏州瑞虹约占30%~40%，其余为台湾省新蔡颖和台湾省开阳

薄膜晶体管液晶显示器正性光刻胶

10%

大多数进口

发光二极管光刻胶

宽光谱g/i/h线

25%

大多数进口

半导体光刻胶

环化橡胶光刻胶

10~15%

用于国产4~5英寸分立器件

G/i线光刻胶

15%

自给率10%左右，主要来自台湾省和日本

KrF/ArF光刻胶

20%

几乎所有进口

▲各种光刻胶的国产化过程

目前，苏州瑞虹已经实现了工字光刻胶的批量生产，苏州瑞虹和北京柯华在解决248纳米光刻胶的关键问题上处于领先地位。

作为国内微电子化学品的领导者，公司在超净高纯试剂、功能材料、光刻胶等领域有着深厚的技术积累和市场优势。公司的G5级过氧化氢、电子级硫酸、光刻胶等产品将从半导体产业向中国的迁移中深深受益。此外，中国新能源汽车行业的快速发展也将促进公司锂电池粘合剂业务的稳步增长。