近年来,随着现代科学技术的发展和新一轮工业革命的深入,发达国家实施了再工业化战略。数字化和智能化技术深刻地改变了制造业的生产方式和产业形式。此外,新材料和新能源技术的重大突破将引发新一轮的技术和产业变革。
特别是在高科技产品的加工生产中,如何满足精密加工、产品小型化、高纯度和高可靠性等要求。,对生产环境的洁净度水平提出了更高的要求。另一方面,随着现代生物医学的发展,洁净室对控制细菌数量和微生物污染的要求也越来越高,以保证医学、生物研究、食品生产等行业不被微生物污染或感染。
工业清洁技术和生物清洁技术将随着科学技术和工业产品的快速发展而迅速发展,成为现代工业生产和科学实验活动不可或缺的重要技术标志之一。
目前,清洁技术已广泛应用于各行各业或其他需要防止颗粒污染和微生物污染的环境控制。由于行业间差距较大,要求不同,环境控制的内容和指标也不同。以下是行业内常用清洁技术要求的总结。
1.药品生产的洁净室要求
药物是用于预防和治疗疾病、恢复和调节身体功能的特殊商品,其质量直接关系到人们的健康和安全。如果某些药物在制造过程中被微生物和尘粒污染或交叉污染,可能会发生意想不到的疾病和危害。
2.医疗应用和医学研究中的洁净室要求
工业洁净技术和工业洁净室多用于以集成电路为代表的工业环境控制;医学上常用生物洁净室来控制微生物污染。在生物洁净室中,这些微生物多由细菌和真菌组成,粒径在0.2um以上,常见的细菌都在0.5um以上,大部分附着在其他物质颗粒上。生物污染渠道不仅仅是通过空气体,还与操作人员的人体和服装有关。
在医学研究领域,生物实验室、无菌实验室、生化和医学实验的“特殊动物”饲养室也非常需要控制微生物污染。
3.精密机械和精细化工产品生产的洁净室要求
随着科学技术的发展,许多工业产品的生产加工对生产环境的粉尘浓度提出了极高的要求,要求生产环境有一定的空气体洁净度水平,控制生产过程中所需的各种相关物质的供应质量。比如在胶片制作中,如果胶片被灰尘污染,感光乳剂会被氧化,活性减弱,pH值会发生变化,影响胶片的照相性能。
4.半导体和集成电路生产的洁净室要求
半导体材料的提纯是发展半导体器件的重要基础。由于大规模和超大规模集成电路的工艺要求,为了获得高纯度的硅材料,原料和中间介质的高纯度以及生产环境的清洁度已经成为影响产品质量的突出问题。
IC芯片的成品率与芯片的缺陷密度有关,缺陷密度与空空气中的粒子数有关。因此,随着集成电路的快速发展,不仅要控制空气体中粒子的大小,还要进一步控制粒子的数量。同时,对超大规模集成电路生产环境的化学污染控制也有相关要求。
5.化妆品和食品生产的洁净室要求
大多数现代化妆品含有蛋白质、维生素、氨基酸、植物提取物等。这些成分为细菌、霉菌等微生物的繁殖和繁殖提供了有利条件。因此,微生物污染是影响化妆品质量的重要因素。化妆品生产中使用的洁净室的控制对象主要是尘粒和微生物,类似于制药生产中使用的洁净室的要求。目前化妆品生产洁净室的空气体洁净度等级可参照药品GMP标准执行。
在食品工厂的生产过程中,严格的设施管理是保证食品安全卫生、防止致病性大肠杆菌和沙门氏菌或混合在饮料中的霉菌引起食物中毒的重要手段。自20世纪90年代以来,世界卫生组织和一些发达国家引入了HACCP体系,并建立了以卫生管理生产过程的食品生产认可体系。
洁净室与电子、制药、生物工程、医疗卫生、食品、化妆品、军工等行业密不可分,提供可控环境满足生产需求,直接影响产品质量。但是不同行业对洁净室的洁净度要求不同,所以在设计洁净室时要遵守相关标准,确保洁净环境符合要求的标准。
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